中芯国际14纳米制程良率突破95%，产能利用率持续攀升

据行业最新消息，中芯国际在14纳米制程领域取得关键突破，良率已稳定突破95%，同时产能利用率持续提升至80%以上。这一里程碑标志着中国本土半导体制造能力迈上新台阶，为国产芯片供应链自主可控注入强心剂。

随着良率改善，中芯国际14纳米工艺在手机基带、物联网及汽车电子等领域的订单持续增长。公司正加速扩产，以满足国内设计公司对成熟制程的旺盛需求。业内分析认为，良率突破将显著降低单位成本，增强中芯国际在代工市场的竞争力，并推动国产芯片在消费电子和工业控制中的渗透率提升。

来源：新浪科技